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                高低溫原位設備
                原位高低溫漫反射裝置

                介:

                原位高低溫漫反射裝置(HLT-DR-N)是一款專門為低溫條件下利用紅外漫反射模式來探測樣品結構變化而設計的原位裝置。該原位裝置匹配中研環科漫反射光路或HARRICK漫反射光路可實現光催化在低溫下的反應監測。該裝置主要包含有主體原位池、溫控系統等多個部件及相關配件。采用液氮制冷對低溫樣品進行制冷,通過熱傳導的制冷方式,確保樣品處于恒溫點,溫度范圍為-170-300℃該原位裝置十分適用于不同材料在低溫下的物相結構研究,是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。

                主要特點:

                1. 原位高低溫紅外漫反射裝置適用于低溫環境下粉末樣品的多相催化反應、表面反應以及光催化反應等的紅外在線檢測;

                2. 該原位裝置主要包括主體原位池(內置制冷組件)、液氮制冷系統、溫控系統等多個部件及相關配件;

                3. 該原位裝置適配HARRICK漫反射光路系統也可依據客戶現有光路進行調整適配

                4. 樣品可為粉末樣品,直接放置在冷臺上;

                5. 該裝置采用液氮制冷對樣品進行制冷,采用熱傳導的方式對樣品進行加熱,保證樣品處的溫度均勻;

                6. 溫度控制范圍:-170-300℃;控制精度:±1℃,采用程序控制;

                7. 樣品臺采用銅加工而成,溫度探測器為Pt100,置于冷臺邊;

                8. 裝置采用藍寶石窗口片,硒化鋅作為可見光窗,能夠承受不高于1 個大氣壓的氣壓條件和低真空環境。


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