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                高低溫原位設備
                原位高低溫XRD反應裝置

                介:

                原位高低溫XRD反應裝置(HLT-XRD-N)是一款專門為低溫條件下利用實驗室X射線衍射儀來探測樣品物相結構變化而設計的原位裝置。該原位裝置可匹配商業衍射儀,可實現樣品在低溫下的物相反應監測。該裝置主要包含有主體原位池、溫控系統等多個部件及相關配件。采用液氮制冷對低溫樣品進行制冷,通過熱傳導的制冷方式,確保樣品處于恒溫點,溫度范圍為-180-300°該原位裝置十分適用于不同材料在低溫下的物相結構研究,是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。

                主要特點:

                1. 原位高低溫XRD 反應裝置適用于低溫環境下粉末樣品的物相結構追蹤、監測;

                2. 該原位裝置主要包括主體原位池(內置制冷組件)、液氮制冷系統、溫控系統等多個部件及相關配件;

                3. 該原位裝置可適配各品牌商業X射線衍射儀的光路系統也可依據客戶現有光路進行調整適配

                4. 樣品可為粉末樣品,直接放置在冷臺上;

                5. X射線探測角度范圍:5<2θ<160°;

                6. 該裝置采用液氮制冷對樣品進行制冷,采用熱傳導的方式對樣品進行加熱,保證樣品處的溫度均勻;

                7. 溫度控制范圍:-180-300°;控制精度:±1℃,采用程序控制;

                8. 樣品臺采用銅加工而成,溫度探測器為Pt100,置于冷臺邊;

                裝置窗口標配高分子球,能夠承受不高于1 個大氣壓的氣壓條件和低真空環境;也可選擇付費金屬鈹球,承受不同氣壓。

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